光譜圖集
上海雙旭光譜圖集
產(chǎn)品參數(shù)
圖集類型：標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)/標(biāo)準(zhǔn)樣品光譜參考圖集
涵蓋范圍：通常包含金屬、合金、礦物、化工產(chǎn)品等材料的光譜數(shù)據(jù)
光譜技術(shù)：可能涉及原子發(fā)射光譜、原子吸收光譜、紅外光譜、拉曼光譜等
數(shù)據(jù)形式：高清光譜曲線圖、特征峰位標(biāo)注、強(qiáng)度數(shù)據(jù)表
適用儀器：各類光譜分析儀（如直讀光譜儀、ICP、XRF等）的比對(duì)與校準(zhǔn)
出版單位：上海雙旭電子有限公司或相關(guān)合作機(jī)構(gòu)
版本信息：具體版本需根據(jù)實(shí)際購(gòu)買或獲取的圖集確定
使用注意事項(xiàng)
儀器匹配：使用前需確認(rèn)圖集光譜數(shù)據(jù)與自身儀器型號(hào)、檢測(cè)條件的匹配性，避免因儀器差異導(dǎo)致誤判
校準(zhǔn)狀態(tài)：確保光譜儀器已按規(guī)范進(jìn)行校準(zhǔn)，儀器漂移會(huì)影響與標(biāo)準(zhǔn)圖集的比對(duì)結(jié)果
樣品制備：實(shí)際樣品制備方法（如拋光、切削、制樣壓力）必須與圖集標(biāo)注的制樣條件一致
環(huán)境因素：實(shí)驗(yàn)室溫度、濕度及清潔度需控制在合理范圍，避免環(huán)境干擾影響光譜特征
數(shù)據(jù)解讀：需結(jié)合元素特征峰、背景干擾、譜線重疊等因素綜合分析，避免單一峰位誤識(shí)別
版權(quán)與更新：圖集受版權(quán)保護(hù)，禁止未經(jīng)授權(quán)的復(fù)制傳播；注意圖集版本更新，老舊版本可能不包含新物質(zhì)或新數(shù)據(jù)
安全存儲(chǔ)：圖集應(yīng)存放于干燥、避光環(huán)境，防止紙質(zhì)受潮變形或電子數(shù)據(jù)損壞 |
